본 발명은 반도체 및 산업용에서 사용하고 있는 각종 화학기상증착(CVD), 물리적기상증착(PVD), 건식식각(Dry etching) 및 건식표면개질(Dry surface modification)공정 장치에 있어서 파티클(Particle)을 제거하기 위한 온도제어를 통한 파티클 제거 장치에 관한 것이다. 본 발명은 반응기체와 보조기체가 유입되어 반응이 일어나는 공정실과, 상기 두 종류의 기체가 공정후에 강제 배기되는 배기관, 배기관과 펌프 사이에 위치한 냉각수를 이용한 파티클 포획부와, 파티클 제거용으로 사용되는 가스를 온도 제어하여 핫가스로 만들어 주는 급속가스가열부와, 이 핫 가스를 공정실로 도입할 수 있는 공정가스 유입구와, 외부 전원에 의해 온도제어가 가능한 열전소자로 구성됨을 특징으로 한다.
