광원으로 부터 하나의 면내로 확장해서 방사되는 빔을 반사형 결상광학계 로 정합한 방향으로 편향하고, 효율좋게 마스크를 조명하므로써, 해상력이 높고, X선 이용효율이 높은 미세패턴 전사방법을 제공한다. X선원(1)에서 방사된 X선은 조명 광학계로써 작용하는 1개의 타원면경(2)에서 반사해서 제1의 기판인 마스크(3)를 조명한다. 마스크(3)에서의 반사광은 오목면경(6), 볼록면경(7), 오목면경(8) 및 평면경(9)로 구성되는 반사형 결상광학계(10)를 통해서 제2의 기판인 웨이퍼(11)에 도달한다. 그 결과, 마스크(3) 상의 조명된 영역에 그려져 있는 패턴이 웨이퍼(11)상에 전사된다. 마스크(3)를 탑재한 스테이지(4)와 웨이퍼(11)를 탑재한 스테이지(12)를 반사형 결상광학계(10)의 축소배율에 맞추어서 동기주사시키는 것에 의해 마스크(3)상의 패턴을 모두 웨이퍼(11)상에 전사할 수 있다.
