본 발명은 플라즈마 기술에 관한 것으로, 과학기술적 목적과 우주 전기 추진장치 내에서 예를 들면 이온과 같은 하전입자의 빔을 발생하기 위하여 사용될 수 있다. 가스 방전장치는 적어도 하나의 밑벽을 가지는 축상 대칭형 챔버와, 고주파 전력 입력 유니트 및 상기 챔버내에 비균일 정자기장을 발생시키는 자기시스템을 포함한다. 자기장 유도는 챔버의 대칭축쪽으로 방사방향으로 감소하고, 고주파전력 입력 유니트 설비영역에 대향하는 챔버의 윗면부분으로 갈수록 종방향으로 감소한다. 고주파 전력 입력 유니트는 지그재그 반복 대칭형의 도체로 제작되며, 플라즈마 발생영역을 포함하는 챔버의 측벽과 밑벽상에 위치한다. 챔버의 가로방향 크기가 세로방향 크기를 초과한다.
