진공자외선 또는 X선의 조사에 의해 상형성을 실행하게 하기 위해 사용하는 광학소자 및 그것을 사용한 투영노출장치에 관한 것으로써, 미세한 패턴의 전사를 가능하게 하기 위해, 진공자외선 또는 X선의 소정의 입사각에 대해서 비스듬한 노출조명광에 대해서 그림자로 되는 소정패턴의 측면부분이 적게 되도록 그 광학소자와 그 비스듬한 노출조명광의 위치를 배치하거나 또는 정반사하는 방향과 그 소정의 패턴의 측면방향이 평행하도록 광학소자의 패턴을 형성한다. 이와같은 구성에 의하면 광학소자를 조명하여 광학소자의 패턴을 전사 또는 결상할때 미세한 패턴을 전사 또는 결상할 수 있다.
