특허/실용신안
특허 기본정보
반사형마스크 및 마스크 제조방법과 그것을 사용한 패턴 형성 방법
특허 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 |
| 출원번호 | 10-1991-0015547 |
| 출원일자 | 1991-09-06 |
| 공개번호 | 20080509 |
| 공개일자 | 1999-04-01 |
| 등록번호 | 10-0184278-0000 |
| 등록일자 | 1998-12-18 |
| 권리구분 | KPTN |
| 초록 | 패턴을 광학적으로 형성하기 위해 사용하는 반사형 마스크로서파장이 인X선과 자외선중 적어도 하나를 반사하는 여러개의 광학 반사면을 포함하며, 상기 반사면은 단차를 가지며, 상기 단차의 반사면에 의해 각각 반사된 광선 사이의 위상 관계가 변화되는 반사형 마스크. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1019910015547 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |