감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법
특허 개요
특허 개요
기관명
NDSL
출원인
후지필름 가부시키가이샤
출원번호
10-2024-7002735
출원일자
2024-01-24
공개번호
20240229
공개일자
0000-00-00
등록번호
등록일자
0000-00-00
권리구분
KUPA
초록
보존 안정성이 우수함과 함께, 미세(특히, 선폭 또는 스페이스폭이 50nm 이하)한 패턴 형성에 있어서, 우수한 패턴 형상이 얻어지는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 등을 제공한다. 감활성광선성 또는 감방사선성막은, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생하는 화합물 (I)을 함유하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물로서, 상기 화합물 (I)은, 2개 이상의 산 음이온성기와, 상기 산 음이온성기와 동일한 수의 양이온성기를 갖고, 상기 산 음이온성기 중 적어도 1개와 상기 양이온성기 중 적어도 1개가 공유 결합을 통하여 연결되며, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 상기 화합물 (I)이 발생하는 2개 이상의 산기는, 산해리 상수(pKa)가 상이한 적어도 2개의 산기를 포함한다.
