마스크와 웨이퍼를 검출하는 현미경의 대물 렌즈와 노출되는 X선이 간섭하지 않도록 함으로써 현미경 대물 렌즈의 대피를 없애고, 시스템의 효율을 향상시키며, X선의 노출 중에도 마스크와 웨이퍼의 위치가 검출되도록 한다. 다수의 대칭성 얼라인먼트 패턴을 갖는 마스크와 웨이퍼를 마련한다. 조명광축을 갖는 다수의 조명 광학계를 이용하여 얼라인먼트의 방향면과 경사진 방향으로 마스크와 웨이퍼의 얼라인먼트 패턴을 각각 조명한다. 검출광 축을 갖고 NA가 적은 대물 렌즈를 포함하는 다수의 얼라인먼트 패턴 확대 광학계의 상 검출기 표면에서 마스크 얼라인먼트 패턴과 주변 얼라인먼트 패턴에 반사된 상의 초점을 맞춘다. 초점이 맞춰진 반사된 상을 영상 신호로 변환하고, 다시 디지털 신호로 변환하여 메모리에 저장한다. 디지털 신호를 리드하여 마스크와 웨이퍼 사이의 상대 변위를 마스크 얼라인먼트 패턴과 웨이퍼 얼라인먼트 패턴의 중심에서 각각 검출한다. 마스크와 웨이퍼 사이의 변위가 존재하지 않도록 마스크 또는 웨이퍼를 이동한다.
