논문
논문 기본정보
BCl3/Ar 혼합가스를 이용한 lt;TEX gt;$Y_2O_3$ lt;/TEX gt; 박막의 유도결합 플라즈마 식각
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 저널명 | 한국전기전자재료학회 2009년도 춘계학술대회 논문집 |
| ISSN | , |
| ISBN |
논문 개요
| 저자(한글) | 김문근,양대왕,김영호,권광호 |
|---|---|
| 저자(영문) | |
| 소속기관 | |
| 소속기관(영문) | |
| 출판인 | |
| 간행물 번호 | |
| 빌행연도 | 2009-01-01 |
| 초록 | 본 연구는 강유전체 박막의 buffer 층으로 사용되는 Yttrium oxide( $Y_2O_3$ ) 박막에 대한 $BCl_3$ /Ar 혼합가스 식각 특성에 대해 연구하였다. 식각 메카니즘을 해석하기 위해 QMS(Quadrupole Mass Spectrometer), OES(Optical Emission Spectroscopy)를 사용하여 플라즈마 특성을 추출하였다. 공정 조건(source power, bias power, pressure, total gas flow)을 동일하게 유지하고 $BCl_3$ /Ar 혼합가스 비율을 변화시키며 실험을 진행 하였다. 혼합가스의 비율이 $BCl_3$ (80%)/Ar(20%)일때 가장 높은 식각 속도을 나타냈고, 이후 점차 감소하였다. 이때의 식각 속도는 8.8 nm/min 였다. 이에 $Y_2O_3$ 는 이온 보조 화학식각 특성을 가짐을 확인하였다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NPAP&cn=NPAP08614653 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| DDC 분류 | |
| 주제어 (키워드) | lt TEX gt $Y_2O_3$ lt /TEX gt . ICP Etching QMS |