장비
장비 기본정보
습식화학약품처리기
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에이치아이티(주) |
| 모델명 | HWC-MCP |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-05-22 |
| 취득금액 |
장비 개요
| 보유기관명 | 서울테크노파크 |
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| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 생산·공정장비 |
| 시설장비 설명 | 동작 원리 : 포토리소그래피 공정 중 develop 공정을 위해 bath 2개, QDR 2개, 울트라소닉 1개 존재. Coating을 위한 보조 wet bench를 두어 spin coater와 hot plate 설치. QDR 파트에는 퀵 드레인 라인, DI 샤워, N2 버블 시스템 구축. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/iQjHJXwdMJUmBa3OQMYQ_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 서울테크노파크 OPEN FAB 104 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-10-072537 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-seoultp-00060 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |