장비
장비 기본정보
웹 퍼네이스
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 피에스티 |
| 모델명 | Melitas M15VH |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-03-31 |
| 취득금액 |
장비 개요
| 보유기관명 | 연세대학교 비아이티 마이크로 팹 센터 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C523 |
| 표준분류명 | 생산·공정장비,기타장비 |
| 시설장비 설명 | Vertical chamber type의 batch process용 furnace Recipe Load : Max 20 ea recipe (Max 40 steps per price) Wafer Size : 150 mm wafer (조각 wafer available) Leak Rate : N2 2kg/㎠ 12시간 압력 변동율 0.5 % 이하 Temp. Range : 150 ~ 1,200 ℃ (step 1℃) Gas Flow : Refer to Gas Drawing Using Gas : N2, H2O, O2 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/uZDedwUvtL23SUBtCTDl_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 서대문구 연세로 50 첨단과학기술연구관 B206호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2008-01-055415 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-YS_BIT-00006 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |