장비
장비 기본정보
클러스터형 실리콘막 에피증착 장비
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)에스엔텍 |
| 모델명 | CRS-5000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-12-08 |
| 취득금액 |
장비 개요
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
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| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | 시험·검사장비 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 태양광 발전용 기판을 제작하기 위한 Si Epitaxy Growth 공정을 진공상태에서 연속적으로 진행할 수 있도록 구성 되어 있음. Plasma Treatment를 이용하여 Substrate의 산화막을 제거할 수 있는 Loadlock & Plasma Treatment Chamber, Substrate를 각 Chamber로 이송 할 수 있는 Transfer Chamber, 플라즈마를 이용하여 박막을 증착 할 수 있는 Sputtering Chamber 및 고온을 이용하여 Substrate를 Annealing 할 수 있는 Rapid Thermal (RTP) Chamber로 구성됨. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/YOC37mHX6djFcuk1VtEV_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 호남권지역본부 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-12-151899 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-kitech-00100 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |