하나 이상의 아크 램프의 오염물을 감소시키기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 일 예시적인 구현은 밀리세컨드 어닐 시스템에 관한 것이다. 밀리세컨드 어닐 시스템은 밀리세컨드 어닐 프로세스를 사용하여 기판을 열 처리하기 위한 프로세싱 챔버를 포함한다. 상기 시스템은 하나 이상의 아크 램프를 추가로 포함한다. 하나 이상의 아크 램프 각각은 아크 램프의 작동 중에 아크 램프를 통해 물을 순환시키는 워터 루프에 결합된다. 상기 시스템은 아크 램프의 작동 중에 아크 램프를 통해 순환하는 물에 질소 가스와 같은 시약을 도입하도록 구성된 시약 주입 소스를 포함한다.
