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특허 실용신안

특허/실용신안

특허 기본정보

도장 공장의 전처리조 오염도 상태 추적 시스템

특허 개요

특허 개요
기관명 NDSL
출원인 주식회사 거남
출원번호 10-2021-0192122
출원일자 2021-12-30
공개번호 20220505
공개일자 2022-05-04
등록번호 10-2394276-0000
등록일자 2022-04-29
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 전처리조 내의 이물질축적으로 인한 오염도를 측정하여 탱크 내 세척수의 오염도를 파악하고 순환하여 이물질을 제거하여 일정한 품질을 제공과 동시에 교체 주기를 효율적으로 관리함으로써, 과잉교체를 줄여 제조 비용 절감과 고객의 만족도를 향상시킬 수 있도록 구현한 도장 공장의 전처리조 오염도 상태 추적 시스템에 관한 것으로, 자동차 도장 공장에 설치되는 전처리 탱크; 상기 전처리 탱크에 수용되어 있는 저장 용액을 상기 전처리 탱크로부터 배출시켜 주는 순환펌프; 상기 순환펌프로부터 전달되는 저장 용액으로부터 이물질을 제거한 후 상기 전처리 탱크로 전달하는 오토스트레이너; 상기 오토스트레이너로부터 이물질을 전달받아 고액 분리를 수행하며, 이물질로부터 분리된 용액을 상기 전처리 탱크로 전달하는 원심분리기; 상기 원심분리기에서 전달되는 이물질을 저장하는 이물질 탱크; 및 상기 순환펌프로부터 전달되는 저장 용액의 입도(Particle) 분석, 입자 농도(%) 측정, 및 입자 형상 측정방식을 이용한 입자로 인한 오염도를 자동 측정하는 오염도 측정 장치;를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020210192122
첨부파일

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과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G01N-015/06,B01D-021/26,B01D-035/28,G01N-001/14,G01N-015/00,G01N-015/02
주제어 (키워드)